新的光學系統令(ling) ECLIPSE煥發新(xin)風采(cai)

  ECLIPSE 顯微(wei)鏡機身采用模塊化制造，可滿足多領(ling)域的(de)工業應用，其中(zhong)包括半導體器件、封裝、FPD、電子器件(jian)、材料和精密模(mo)具制造等(deng)。ECLIPSE LV 系(xi)列經(jing)過不斷的發展完善并(bing)配備了新的光學(xue)系(xi)統和(he)(he)(he)功能，可根據觀察方法和(he)(he)(he)目的 選擇支(zhi)架裝置(zhi)和(he)(he)(he)照(zhao)明裝置(zhi)以(yi)滿(man)足多種觀察需求。用(yong)(yong)戶可選擇使用(yong)(yong)電動(dong)和(he)(he)(he)手動(dong)操控(kong)模式以(yi)及反(fan)射(she)照(zhao)明模式和(he)(he)(he)反(fan)射(she)／透射(she)組合照(zhao)明模式以(yi)滿(man)足任何(he)應(ying)用(yong)(yong)需求。

 

CFI60-2 經過改進(jin)的光(guang)學(xue)性(xing)能 

    以*的高數值孔徑和長工作距離設計理念而著稱的尼康(kang) CFI60 光學系統經過(guo)進(jin)一步改(gai)進(jin)，具有較的長工作距離、色差校正性能和更輕的重(zhong)量(liang)。 

輕松的操(cao)作(zuo)與數碼相機(ji)集成

   現(xian)可使用數(shu)碼控制裝(zhuang)置來檢測包括物鏡信(xin)息在內的顯微鏡信(xin)息，以及對顯微鏡進(jin)行電(dian)動操作，以更高效地(di)進(jin)行觀(guan)察和圖像拍攝。

觀察方法 

   可(ke)支持(chi)多種觀(guan)察方法：明場、暗場、偏光(guang)、微(wei)分干(gan)涉、落(luo)射熒光(guang)和雙光(guang)束干(gan)涉測量觀(guan)察功能(neng)。此外(wai)，LV100DA和(he)LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光(guang)和相襯觀(guan)察功能。